GP835真空質量監(jiān)控系統(tǒng)

835真空質量監(jiān)控儀（Vacuum Quality Monitor ,VQM^TM）結合了高性能的氣體分析技術和智能儀表設計理念使復雜的測量變成了可識別的信息。835VQM系統(tǒng)是目前世界上速度最快、能耗最低的氣體成分分析儀，它在85毫秒內完成1到145質量數(shù)的氣體分子的數(shù)據(jù)收集、質譜分析和數(shù)據(jù)記錄等全部工作。作為選項，VQM還可以在120毫秒內監(jiān)控1-300質量數(shù)的成分?？蛇x擇部分掃描功能從而獲得更快的掃描速度。

你可以從控制器輸出軟件中看到系統(tǒng)里的10種最高組成氣體、全壓力趨勢圖（配用全壓力真空計）、分壓力趨勢圖、質譜分析柱狀圖、數(shù)據(jù)記錄、數(shù)據(jù)捕獲記錄、氣體特性數(shù)據(jù)庫以及泄露檢查?？刂破骱驼婵沼嫻枰?5W功率，并且可以用1米到20米線遠程連接835質譜儀。

 優(yōu)勢

■在85毫秒內完成質量數(shù)從1-145的氣體全壓力和分壓力測量，或者是在120毫秒內完成1-300質量數(shù)的測量。

■即時信息：所識別的前十個最高比例的氣體成分通過標準比例、百分比，全壓力及分壓力趨勢圖表示出來。

■精確的氫氣和氦氣檢測（無低質量數(shù)分壓全壓現(xiàn)象。）

■可以進行全部樣本數(shù)據(jù)的記錄。

■低能耗-僅15W

■便攜式設計，可使用1米到20米電纜線遠程安裝質譜儀。

 近乎革命性的一代產品

隨著835的誕生，基于靜電離子阱技術推出了革命性的新一代的質譜分析產品：
    ■超過20倍快的掃描速度。

■低于80%的能耗。

■顯著加快的校準速度。

■精確的顯現(xiàn)低質量氣體成分。

■配對四極質譜和磁扇區(qū)質譜技術體積大幅度減小。

 835質譜分析技術和使用

自動共振離子阱質譜分析技術提出了一套從靜電離子阱內選擇性的發(fā)射離子的新方法。835VQM質譜儀原本為比例測量儀器，它可以提供混合氣體的詳細成分分析。

 工作原理

離子源是直接安裝在離子阱內通過電子輕擊電離來產生離子的一個燈絲組件。施加一個靜電場將離子束縛在離子阱內，并且這些離子會以它們的固有頻率在離子阱內振蕩。振蕩頻率是與每種離子的質荷比的平方根成反比的，也就是說，輕的離子比重的離子振動頻率高。當離子在一個低幅射頻掃描中獲得自動共振能量時就會被射出。電子倍加探測器收集入射的離子并且產生一個與離子濃度成正比的電流。

 典型應用

835質譜分析儀通常用在那些需要利用真空條件來實現(xiàn)制造或試驗工藝的設備中（如玻璃鍍膜、半導體制造、束線氣體分析等）?；緫冒ū镜渍婵諜z測、腔室定期清潔后的檢驗、檢漏、污染物監(jiān)測、工藝監(jiān)控、真空系統(tǒng)質量分析等。

現(xiàn)場更換組件

 緊湊設計并且可分體安裝

VQM質譜儀因其小巧的外形使得該系統(tǒng)可以用于那些空間和重量都有限制的應用。質譜儀探頭和控制器不必安裝在一起，因此，對于一些特殊環(huán)境，例如加速器或是束線，眾所周知這類設備的輻射會導致電子器件的損壞，這時VQM質譜分析系統(tǒng)便成為理想選擇。此外，多個質譜儀可以只用一個控制器來操作。僅僅通過移動質譜儀和控制器之間的連接電纜便可以實現(xiàn)。因此在同一真空腔體或是系統(tǒng)中免去了多個控制器的需求。

 超高真空特性

835VQM質譜儀的材料、組成和結構都是與超高真空技術標準吻合的，并且超高真空測量部分是由不銹鋼、陶瓷和難熔材料組成的。

 低質譜段的高分辨率

與現(xiàn)有有四極質譜儀不同，VQM系統(tǒng)可以精確檢測報告出像氫、氦這樣低質量數(shù)范圍的氣體質譜，包括氫1的譜峰。

 超快的真空質量測量

VQM系統(tǒng)僅用于85ms就可以完成從1到145質量數(shù)范圍內的數(shù)據(jù)收集、質譜解析和數(shù)據(jù)存儲。作為選項，1到300質量數(shù)的掃描也只需120毫秒。

 超低能耗

VQM控制器和質譜儀僅需15W（最大）供電。用一個功率的靜電場連同一個低輻射頻信號供離子入射進入收集系統(tǒng)這僅需非常少的功耗。

 直觀的操作系統(tǒng)

使用簡便的835VQM應用軟件提供了全套特性和功能，包括快速真空質量測量和數(shù)據(jù)存儲、可變的數(shù)據(jù)呈現(xiàn)方式和界面選項、檢漏模式、以及系統(tǒng)選項。

 非常強的功能

VQM系統(tǒng)軟件使用起來空前的簡便，所檢測到的高濃度的前10種氣體（或者用戶指定氣體）會以列表的形式顯示出來，同時還可以表示出對應質量數(shù)或是與氣體數(shù)據(jù)庫中對應的氣體成分的比例、百分比、或是絕對幅度。你還可以看到全壓力和分壓力趨勢圖，以及全部質譜數(shù)據(jù)。鼠標點幾下你就可以獲得軟件可識別的所有數(shù)據(jù)圖表的記錄，并且它們可以在Excel或者其實常用的數(shù)據(jù)分析程序中讀取。

 便捷安裝

VAM質譜儀可以通過一根最長達20米的連接電纜線進行遠程安裝。VQM控制器可以放在操作臺上，或用架式安裝，也可以是其它的特定安裝方式。

 單一氣體校準

校準只要用鼠標點擊幾下就可以在幾秒內完成，校準所需的氣體可以是任何一種在系統(tǒng)中存在的氣體。

 全壓測量組件（可選項）

零件號為390802真空規(guī)提供了從大氣到10-9托的精準且連續(xù)的壓力測量。VQM質譜儀的比例程序和真空規(guī)一起使用可獲得分壓力數(shù)據(jù)，并能實現(xiàn)VQM在高壓力下自動保護。當壓力低于10-9托時，370Stabil-lon系列真空規(guī)和控制器可以通過零件號為801202連接電纜接入835VQM控制器使用。835VQM控制器只有寬10.49厘米、長17.85厘米、高4.01厘米。很容易裝在幾乎所有的系統(tǒng)上。

 VQM質譜儀的大小就是一個常規(guī)的電離規(guī)管大小，包括連接電纜頭在內也只有19.1厘米長。它的安裝法蘭是標準的NW35CF的連接法蘭。

VQM控制器和質譜儀之間的連接電纜有1米長、3米長和20米可選。

 綜述

速度：1-145amu只要85毫秒或1-300amu只要120毫秒。

功率：最大功率僅需15瓦。

尺寸：小巧的控制器并且質譜儀可遠程安裝。

軟件：直觀、易懂、使用簡便。

通訊：USB2.0，繼電器輸入/輸出，模擬量輸入/輸出，與Micro-Lon全壓力真空規(guī)通訊為RS-485。

方便校準：使用任何一種真空腔體內存在的氣體即可。

檢漏：帶有漏率趨勢圖及聲音報警。

來源：由真空儀表權威人士研發(fā)。

 835VQM瀏覽使用軟件

835VQM瀏覽使用軟件提供了快捷的方式來查閱全部功能數(shù)據(jù)并且優(yōu)化了儀表特性。該應用軟件基于對話窗口的模式通過USB2.0COM接口與VQM控制連接通訊。

真空技術將很快利益于嵌入在應用程序中的數(shù)據(jù)挖掘功能，包括氣體峰值的獲得和氣體成分識別。這樣就不必再請高級質譜專家來判斷系統(tǒng)中有哪些氣體。簡單易懂的屏幕立刻就可以顯示出有些什么氣體、百分比多少、比例多少、和當前壓力值。

高級用戶會發(fā)現(xiàn)整套數(shù)據(jù)調整（高級設置）和嵌入在Tune界面內的數(shù)據(jù)提供了非常方便的方式來描述和優(yōu)化系統(tǒng)特性。

 簡便的引導系統(tǒng)

當VQM系統(tǒng)連入安裝有VQM瀏覽使用軟件的主機時，電腦顯示器上顯示的內容可以讓用戶選擇和查閱很多功能和讀數(shù)。屏幕上方的一排圖標是所有操作和功能切換的快捷命令符。

第一組圖標（位于屏幕的左側）是基本功能鍵，用于連接和給質譜儀供電以及開始質譜掃描。第二組圖標用于控制數(shù)據(jù)顯示，操作模式選擇，和系統(tǒng)設備（特性）。第三組圖標用于數(shù)據(jù)存儲功能。

上下文幫助功能用于提供系統(tǒng)操作指導，

 瀏覽應用軟件的特色

■直觀的圖表用戶界面。

■顯示系統(tǒng)中最高比例的10中氣體。

■單一氣體校準。

■質譜輸出。

■壓力隨時間變化趨勢來顯示。

■檢漏功能帶曲線顯示/聲音提示。

■DSP用于降低成本底噪音并識別峰值。

■存儲數(shù)據(jù)并能再次導入軟件。

■高級設置和調諧功能。

■VQI功能提供基于邏輯方程式的報警和數(shù)字輸出。

 Summary界面（概要界面）

瀏覽軟件對質譜進行收集、分析和解釋。軟件計算質譜平均數(shù)、識別和計算質譜峰值。并把這些信息顯示出來。真空腔體內的氣體（最多10種氣體/質量數(shù)），分壓力、趨勢、全壓力、平均值和質譜柱狀圖等掃描數(shù)據(jù)都是動態(tài)顯示的。

 Tune功能（調諧功能）

調諧界面用于校準，電子倍加收集器調整，RF射頻調整，和離子阱配置。調諧界面提供了獲取質譜儀原始質譜輸出的功能，也提供了參數(shù)、狀態(tài)，和硬件特性信息的存儲。調諧界面還能讀取出廠設置和用戶設置。高級質譜分析專家可以使用調諧功能定義特定的儀表操作參數(shù)。自動調整功能可以確定恰當?shù)脑O置以優(yōu)化系統(tǒng)性能。

 顯示結果

氣體分析結果可以以比例（標準），百分比（%），和絕對值（與全壓試選項一起使用）顯示出來。圖表界面顯示出全壓力、分壓力、和全量程質譜數(shù)據(jù)。分壓力趨勢圖和檢漏界面允許監(jiān)測特定氣體濃度和分壓力隨時間變化狀態(tài)。

 柱狀圖

柱狀圖模式是以柱狀圖的形式顯示出質譜特性，可以顯示比例或分壓力（如果與全壓力計選項一起工作）。

 檢漏

檢漏界面允許從示漏氣體列表（氫、氦、氮、氬、氟里昂）中選出一種氣體并且顯示出當前的漏率極限和所選氣體的分壓力趨勢。

 校準便捷

VQM系統(tǒng)可以用現(xiàn)存于真空腔體內的(1-145amu)任意一種氣體非常方便進行校準。單選你想要用來校準的譜峰，點擊箭頭調整譜峰與其對應的質量數(shù)一致。然后所有其它的氣體譜峰也會相應調整準確。

縮放功能可以很容易看到所選峰型的譜圖。

 VQI^TM（VacuumQuality Index）功能

由監(jiān)控全壓力、分壓力或其他參數(shù)設定構成的方程式可用于驅動聲音報警和數(shù)字輸出。方程式可以使用布爾邏輯運算“AND(與)”、“OR(或)”和“小于”、“大于”、“等于”等操作。對于“等于”操作，允許有一個小偏差范圍。VQI方程可以手動輸入也可以從譜庫中自動生成。

 趨勢圖

主屏上的趨勢圖展示了系統(tǒng)中的前10種氣體在15分鐘時間范圍內的變化情況。趨勢曲線以對數(shù)坐標顯示?？s放功能可以調整坐標曲線到最佳視覺效果。趨勢圖也不局限于15分鐘內。為適合更長時間比例的國表并確保數(shù)據(jù)存儲大小的合理性，可根據(jù)需要在趨勢圖中間選取數(shù)據(jù)點。

 數(shù)據(jù)存儲

    可以在選定的時間范圍內存儲全部掃描速度下的原始數(shù)據(jù)和過程數(shù)據(jù)。過程數(shù)據(jù)是非常小的因為它僅僅是保存每個質量數(shù)的振幅。當要進行一個長時間記錄時，過程數(shù)據(jù)允許選擇間隔時間存儲以節(jié)省磁盤空間。Logs存儲的數(shù)據(jù)可以在軟件程序中重現(xiàn)出來并且rew logs存儲的數(shù)據(jù)可以在應用軟件中動態(tài)顯示出來以便進一步分析數(shù)據(jù)。不有一種保存功能是原始數(shù)據(jù)、平均值、加上所有的成分柱狀圖和趨勢信息的快照記錄方式。保存的數(shù)據(jù)格式是CSV（逗號分隔值）ASCII文件。